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TDLAS技術,0.01ppm解像度,および正確なNH3のための加熱ガス経路を備えた連続アンモニア排出量モニタリングシステム - CEMS

TDLAS技術,0.01ppm解像度,および正確なNH3のための加熱ガス経路を備えた連続アンモニア排出量モニタリングシステム - CEMS

固定汚染源の連続監視システム

排気ガスの連続監視システム

起源の場所:

中国

ブランド名:

KACISE

証明:

CE

モデル番号:

KGD-YQ-523

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製品詳細
測定原則:
TDLAS
範囲:
0〜10〜100ppm 調整可能
正確さ:
± 1%F.S.
再現性:
±1%
解決:
0.01ppm
最小検出制限:
≤1ppm
ハイライト:

固定汚染源の連続監視システム

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排気ガスの連続監視システム

支払いと送料の条件
最小注文数量
1PCS
パッケージの詳細
各ユニットには個別の箱があり,すべての箱は標準パッケージに梱包されています.または顧客の要求が利用できます.
受渡し時間
5~8 営業日
支払条件
L/C、D/A、D/P、T/T、ウェスタンユニオン、マネーグラム
供給の能力
1000個/週に1個 交渉可能
製品説明

固定汚染源の排気ガスからのアンモニア排出の継続監視システム (NH₃ - CEMS) KGD - YQ - 523

製品紹介

固定汚染源 (NH₃ - CEMS) の排気ガスからのアンモニア排出の連続監視システム KGD - YQ - 523 は、波長可変ダイオードレーザー吸収分光法 (TDLAS) 技術を採用しており、脱窒プロセスの出口でのアンモニア濃度のオンライン監視に適しています。このシステムは、測定ユニットを煙道壁の外側に設置する、近抽出方式を採用しています。サンプルガスと接触するガス経路チャネルは、アンモニアの吸着と損失を回避するためにプロセス全体を通じて加熱され、サンプルガスの信頼性が保証されます。アンモニアスリップの変化をリアルタイムで正確に反映し、環境保護モニタリングに信頼性の高いデータサポートを提供します。

TDLAS技術,0.01ppm解像度,および正確なNH3のための加熱ガス経路を備えた連続アンモニア排出量モニタリングシステム - CEMS 0

製品の特徴

  • TDLAS 技術を採用しているため、測定ガスはバックグラウンドガスからの相互干渉の影響を受けません。
  • 超低域測定。多重反射ガスセルを使用しているため、検出限界が低くなります。
  • このシステムは、フルプロセス校正方法を使用して、測定結果の精度を向上させます。
  • ガス流路はプロセス全体を通じて加熱され、NH3 凝縮損失を効果的に回避するために低吸着材料と処理技術が使用されます。
  • 抽出タイプの測定。煙道内の粉塵、温度、圧力の変動の影響を受けません。
  • フルプロセスキャリブレーション機能を搭載しています。

技術的パラメータ

測定コンポーネント NH₃
測定原理 TDLAS
範囲 0~10~100ppm調整可能
正確さ ±1%FS
再現性 ±1%
解決 0.01ppm
最小検出限界 ≤ 1ppm
保護レベル IP65以上
応答時間 T90 ≤ 30s
労働条件 労働条件
周囲温度 -30~60℃
周囲湿度 5~85%RH
動作電源 AC220V、50Hz、800W
パージガス源 0.4~0.8MPaの圧縮空気
コミュニケーション 1ウェイ RS-232、1ウェイ RS-485
出力モード 4ウェイ4 - 20mA出力、8ウェイリレー出力

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